PVD(Physical Vapor Deposition)법은 물리적 증착법으로, 진공 상태에서 물질을 증발시켜 기판에 증착하는 방법입니다. 이 과정에서는 주로 진공증착, 음극 스퍼터링, 이온 플레이트 등이 사용됩니다. PVD법은 고순도의 코팅층을 얻을 수 있으며, 코팅층의 표면이 균일하다는 장점이 있습니다. 그러나 헬륨 가스는 PVD법에서 필수적으로 사용되는 것이 아니며, 가압된 상태에서 주입되어야 한다는 설명은 PVD법의 일반적인 특성과 맞지 않습니다. 그러므로 정답은 4번입니다.