반도체에서 Si의 건식식각에 사용되는 기체는 주로 플루오린(F) 기반의 혼합물이나 HBr와 같이 불활성 기체이다. CF₄와 C₂H₆은 이러한 식각 공정에서 사용되지 않으며, 특히 C₂H₆는 유기화합물로 전형적인 기체가 아니다. 따라서 정답은 3번 C₂H₆이다.