H₂ 가스를 이론량보다 과잉으로 넣는 주된 목적은 반응의 진행을 촉진하고, 생성물의 수율을 높이기 위해서입니다. 이는 특히 일부 반응에서 H₂가 촉매 작용을 하여 반응속도를 증가시키는 데 도움을 줍니다. 따라서 가장 적절한 선택지는 장치부식 억제입니다.