주어진 문제는 포토레지스트 공정에서 마스크를 사용해 노광 후 선택적으로 포토레지스트를 제거하는 과정에 관한 것입니다. '현상(Developing)'은 노광된 포토레지스트의 불필요한 부분을 제거하는 단계이며, 이 단계에서 양성 포토레지스트의 특성인 빛에 의해 용해되는 특징을 활용합니다. 따라서 정답은 '1. 현상(Developing)'입니다.