CVD 공정은 기체 반응을 통해 고체 박막을 형성하는 기술로, 일반적으로 증착할 물질의 전구체가 기체 상태에서 반응하여 표면에 침착됩니다. 제시된 선택지 중에서 CVD의 기본 원리를 잘못 설명한 내용이 포함되어 있어 부정확합니다. 따라서 이 선택지가 정답이 됩니다.